特許
J-GLOBAL ID：200903045546444367
プラズマ処理装置及びプラズマ分布補正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
別役 重尚
, 村松 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-061748
公開番号（公開出願番号）：特開2008-227063
出願日： 2007年03月12日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：
【課題】シースが歪むのを防止できると共に、構成を簡素にすることができ、さらに、基板へのパーティクルの付着を防止することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置10は、ウエハWを収容するチャンバ11と、該チャンバ11内に配されてウエハWを載置する静電チャック12と、該静電チャック12において載置されたウエハWの周縁を囲むように配されるフォーカスリング21と、静電チャック12に高周波電力を供給する下部高周波電源16と、チャンバ11内のシースの厚さ分布(プラズマの分布)を光学的に観測するCCDカメラ37と、フォーカスリング21にローパスフィルタ34、給電棒18及び静電チャック12を介して負の直流電圧を印加するフォーカスリング用直流電源33と、観測されたプラズマの分布に基づいて印加する直流電圧の値を設定するコントローラ38とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を収容する収容室と、該収容室内に配されて前記基板を載置する載置台と、該載置台において前記載置された基板の周縁を囲むように配される円環状部材と、前記載置台に高周波電力を供給する電力供給装置とを備え、前記収容室内に発生するプラズマを用いて前記基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
前記プラズマの分布を光学的に観測する観測装置と、
前記円環状部材に直流電圧を印加する電圧印加装置と、
前記観測されたプラズマの分布に基づいて前記印加する直流電圧の値を設定する制御装置とを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, H05H 1/00
, H05H 1/46
H01L21/302 101B
, H05H1/00 A
, H05H1/46 M
5F004AA01
, 5F004BA09
, 5F004BB03
, 5F004BB12
, 5F004BB13
, 5F004BB22
, 5F004BB23
, 5F004CA03
, 5F004CA06
, 5F004CA08
, 5F004CB09
, 5F004CB10
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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