特許
J-GLOBAL ID:200903046245324796

シリコン切断スラリー廃液の再生処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-137615
公開番号(公開出願番号):特開2006-315099
出願日: 2005年05月10日
公開日(公表日): 2006年11月24日
要約:
【課題】ワイヤソーによるシリコンウェハー切削工程で排出されるスラリー廃液からクーラントと砥粒を、効率的に回収する方法を提供する。【解決手段】 廃スラリーが貯蔵された原料タンク3、廃スラリーと超臨界二酸化炭素流体とを混合してクーラントを抽出する抽出槽5,超臨界流体を減圧してクーラントと二酸化炭素ガスとを分離する気液分離槽6および回収された二酸化炭素を超臨界状態に維持するための圧縮・加熱器4を備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
クーラントと砥粒を含む使用済み研磨・切削剤スラリー廃液を、 超臨界二酸化炭素流体と接触させ、 該スラリー中のクーラントを二酸化炭素流体に溶解抽出させたのち、 該流体中の二酸化炭素を超臨界状態から気体状態として分離し、クーラントを回収することを特徴とする研磨・切削剤スラリー廃液の再生処理方法。
IPC (8件):
B24B 57/02 ,  B01D 11/00 ,  B03B 5/00 ,  B03B 7/00 ,  B03B 9/06 ,  B03B 13/00 ,  B28D 5/04 ,  C02F 11/00
FI (8件):
B24B57/02 ,  B01D11/00 ,  B03B5/00 Z ,  B03B7/00 ,  B03B9/06 ,  B03B13/00 ,  B28D5/04 C ,  C02F11/00 C
Fターム (33件):
3C047FF06 ,  3C047GG17 ,  3C058AA05 ,  3C058AC01 ,  3C058CB06 ,  3C058DA03 ,  3C069AA01 ,  3C069BA06 ,  3C069CA04 ,  3C069DA04 ,  4D056AB17 ,  4D056AC24 ,  4D056BA16 ,  4D056CA13 ,  4D056CA20 ,  4D056CA21 ,  4D056CA22 ,  4D056CA31 ,  4D056CA39 ,  4D056DA01 ,  4D056DA02 ,  4D059AA30 ,  4D059BH01 ,  4D059BH08 ,  4D059CC07 ,  4D059CC10 ,  4D059DA37 ,  4D071AB13 ,  4D071AB23 ,  4D071AB45 ,  4D071CA03 ,  4D071DA01 ,  4D071DA15
引用特許:
出願人引用 (10件)
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