特許
J-GLOBAL ID:200903046245324796
シリコン切断スラリー廃液の再生処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (4件):
鈴木 俊一郎
, 牧村 浩次
, 高畑 ちより
, 鈴木 亨
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-137615
公開番号(公開出願番号):特開2006-315099
出願日: 2005年05月10日
公開日(公表日): 2006年11月24日
要約:
【課題】ワイヤソーによるシリコンウェハー切削工程で排出されるスラリー廃液からクーラントと砥粒を、効率的に回収する方法を提供する。【解決手段】 廃スラリーが貯蔵された原料タンク3、廃スラリーと超臨界二酸化炭素流体とを混合してクーラントを抽出する抽出槽5,超臨界流体を減圧してクーラントと二酸化炭素ガスとを分離する気液分離槽6および回収された二酸化炭素を超臨界状態に維持するための圧縮・加熱器4を備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
クーラントと砥粒を含む使用済み研磨・切削剤スラリー廃液を、
超臨界二酸化炭素流体と接触させ、
該スラリー中のクーラントを二酸化炭素流体に溶解抽出させたのち、
該流体中の二酸化炭素を超臨界状態から気体状態として分離し、クーラントを回収することを特徴とする研磨・切削剤スラリー廃液の再生処理方法。
IPC (8件):
B24B 57/02
, B01D 11/00
, B03B 5/00
, B03B 7/00
, B03B 9/06
, B03B 13/00
, B28D 5/04
, C02F 11/00
FI (8件):
B24B57/02
, B01D11/00
, B03B5/00 Z
, B03B7/00
, B03B9/06
, B03B13/00
, B28D5/04 C
, C02F11/00 C
Fターム (33件):
3C047FF06
, 3C047GG17
, 3C058AA05
, 3C058AC01
, 3C058CB06
, 3C058DA03
, 3C069AA01
, 3C069BA06
, 3C069CA04
, 3C069DA04
, 4D056AB17
, 4D056AC24
, 4D056BA16
, 4D056CA13
, 4D056CA20
, 4D056CA21
, 4D056CA22
, 4D056CA31
, 4D056CA39
, 4D056DA01
, 4D056DA02
, 4D059AA30
, 4D059BH01
, 4D059BH08
, 4D059CC07
, 4D059CC10
, 4D059DA37
, 4D071AB13
, 4D071AB23
, 4D071AB45
, 4D071CA03
, 4D071DA01
, 4D071DA15
引用特許:
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