特許
J-GLOBAL ID：200903046814057971

レーザ照射装置並びに走査レーザ光を用いた露光方法及び走査レーザ光を用いたカラーフィルタの製造方法

発明者：
小椋 行夫

小椋 行夫 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-059992
公開番号（公開出願番号）：特開2003-255552
出願日： 2002年03月06日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：
【要約】【課題】 レーザ光が照射される被照射物の所定位置に複数の均一なレーザ光を同時に走査する、照射効率及び照射品質に優れたレーザ照射装置並びに走査レーザ光を用いた露光方法及び走査レーザ光を用いたカラーフィルタの製造方法の提供を目的とする。【解決手段】 レーザ照射装置1は、複数の半導体レーザの配設された半導体レーザアレイ11,レーザ光を伝搬する光伝搬手段12,照射パターン21の形成されたマスク20及び照射パターン21から照射されたレーザ光を結像する結像光学素子31を備えた光学ユニット10と、この光学ユニット群50を移動させるX-Yテーブル60と、を具備した構成としてある。
請求項（抜粋）：
レーザ光を発する複数の半導体レーザの配設された半導体レーザアレイ,前記レーザ光を伝搬する光伝搬手段,前記レーザ光を照射する照射パターンの形成されたマスク及び前記照射パターンから照射された前記レーザ光を結像する結像光学素子を備えた光学ユニットと、この光学ユニット及び/又は前記レーザ光が照射される被照射物を移動させる移動手段と、を具備したことを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (5件)：
G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 501 ,  B23K 26/06 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505
FI (5件)：
G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 501 ,  B23K 26/06 A ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505
Fターム (22件)：
2H048BA02 ,  2H048BA45 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H091FA02Y ,  2H091FC10 ,  2H091FC23 ,  2H091FC29 ,  2H091LA12 ,  2H097AA03 ,  2H097CA17 ,  2H097LA17 ,  4E068CA01 ,  4E068CA05 ,  4E068CA08 ,  4E068CD02 ,  4E068CD10 ,  4E068CD16 ,  4E068CE02 ,  4E068CE04 ,  4E068CE08 ,  4E068DA09
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • レーザ露光描画装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-011859   出願人：ソニー株式会社
  • 半導体レーザ露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-196499   出願人：株式会社シンク・ラボラトリー
  • 特開平1-152411
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