電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-290578
公開番号（公開出願番号）：特開2002-099085
出願日： 2000年09月25日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】【課題】電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。【解決手段】 (A)電子線又はX線の照射により、酸を発生する化合物、(B)メタ位に少なくともOH基を1個有するフェノール構造を含む繰り返し単位を含有し、分子量分布が1.0〜1.5の範囲にある、水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び(C)酸の作用により(B)の樹脂と架橋を生じる架橋剤を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)電子線又はX線の照射により、酸を発生する化合物、(B)メタ位に少なくともOH基を1個有するフェノール構造を含む繰り返し単位を含有し、分子量分布が1.0〜1.5の範囲にある、水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び(C)酸の作用により(B)の樹脂と架橋を生じる架橋剤、を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 601 , C08K 5/00 , C08L 25/00 , C08L 33/00 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/038 601 , C08K 5/00 , C08L 25/00 , C08L 33/00 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (35件)：

2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BF15 , 2H025BJ05 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J002BC041 , 4J002BC111 , 4J002BC121 , 4J002BG041 , 4J002BG071 , 4J002BG091 , 4J002BG131 , 4J002EB116 , 4J002ED076 , 4J002EJ067 , 4J002ES006 , 4J002EU186 , 4J002EU226 , 4J002EV077 , 4J002EV216 , 4J002EV256 , 4J002EV296 , 4J002EV306 , 4J002EV316 , 4J002FD090 , 4J002FD147 , 4J002FD156 , 4J002FD310 , 4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (7件)

ネガ型感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-074716 出願人：ジェイエスアール株式会社
ネガ型感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-178670 出願人：日本合成ゴム株式会社
電子線用化学増幅ネガ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-295204 出願人：住友化学工業株式会社

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