特許
J-GLOBAL ID：200903004149854224
液処理装置
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-252414
公開番号（公開出願番号）：特開2004-095707
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：
【課題】現像液の消費量を抑制すると共に、現像液の流れを乱すことなく十分に現像処理の時間を確保して、均一な現像処理が可能な液処理装置を提供すること。【解決手段】ガラス基板Gと一定の隙間を空けて相対的に平行移動可能な液処理面21を有するノズルヘッド20と、液処理面21に一定の間隔を空けて平行に設けられ、ガラス基板G表面に帯状に現像液を供給する2個の現像液供給ノズル22と、2個の現像液供給ノズル22を挟む両側に現像液供給ノズル22と平行に設けられ、現像液供給ノズル22から供給された現像液を吸引すると共に、ガラス基板Gの表面に現像液の流れを形成する吸引ノズル23と、を具備する現像処理装置1を用いてガラス基板Gに対し均一な現像処理を可能とする。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
板状の被処理基板と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、
上記液処理面に一定の間隔を空けて平行に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する2個の処理液供給手段と、
上記2個の処理液供給手段を挟む両側に処理液供給手段と平行に設けられ、上記処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、
を具備することを特徴とする液処理装置。
IPC (6件)：
H01L21/027
, B05B1/04
, B05B1/14
, B05C5/02
, B05C11/08
, G03F7/30
H01L21/30 569C
, B05B1/04
, B05B1/14 Z
, B05C5/02
, B05C11/08
, G03F7/30 501
2H096AA25
, 2H096GA30
, 4F033AA14
, 4F033BA03
, 4F033CA01
, 4F033DA05
, 4F033EA01
, 4F033GA01
, 4F033GA11
, 4F033LA06
, 4F033LA13
, 4F033NA01
, 4F041AA02
, 4F041AA06
, 4F041AB01
, 4F041BA05
, 4F041BA13
, 4F041BA15
, 4F041BA22
, 4F041BA38
, 4F041BA57
, 4F041CA02
, 4F041CA23
, 4F042AA02
, 4F042AA07
, 4F042AB00
, 4F042EB05
, 4F042EB09
, 4F042EB13
, 4F042EB18
, 4F042EB24
, 4F042EB25
, 4F042EB29
, 5F046LA02
, 5F046LA03
, 5F046LA04
, 5F046LA05
, 5F046LA06
, 5F046LA07
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (22件)
全件表示
前のページに戻る
