特許
J-GLOBAL ID：200903048061007685

周波数2重化ハイブリッド・フォトレジスト

発明者：
マーク・シィ・ヘィケー

マーク・シィ・ヘィケー について

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スティーブン・ジェイ・ホルメス

スティーブン・ジェイ・ホルメス について

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デビッド・ブイ・ホーリク

デビッド・ブイ・ホーリク について

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アハマド・ディ・カトナニ

アハマド・ディ・カトナニ について

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ニランジャン・エム・パテル

ニランジャン・エム・パテル について

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ポール・エイ・ラビダックス

ポール・エイ・ラビダックス について


出願人/特許権者：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション について


代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-225041
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104834
出願日： 1997年08月21日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：
【要約】【課題】 像を極めて精密に制御できるフォトレジスト物質を提供する。【解決手段】 ネガ型応答とポジ型応答の両方を有し、中間量の照射エネルギーで露光される回折領域に空間を形成するフォトレジスト組成を開示している。このレジスト物質はドーナツ型を印刷するのに使用でき、或いは第2マスク・ステップにより、線を印刷することができる。またレチクルにグレイスケール・フィルタを使用して大小のフィーチャが得られ、より大きい中間露光領域を形成することができる。
請求項（抜粋）：
ネガ型成分とポジ型成分を含み、該ポジ型成分は第1化学線エネルギー・レベルで機能し、該ネガ型成分は第2化学線エネルギー・レベルで機能し、且つ該第1及び第2の化学線エネルギー・レベルは、化学線エネルギー・レベルの中間範囲により分離されている、フォトレジスト組成。
IPC (5件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (21件)
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