特許
J-GLOBAL ID：200903048625067381
近接補正方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
坂口 博 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-160870
公開番号（公開出願番号）：特開2001-013670
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：
【要約】【課題】 所与のチップ・レイアウト設計に関するパターン形成プロセスの近接補正の効率を高める方法および構成を提供すること。【解決手段】 この方法は、少なくとも1つのレイアウト・パラメータに応じてパターン形成プロセスを記述するステップと、前記少なくとも1つのパラメータの分布を離散化するステップと、レイアウト修正を前記少なくとも1つのパラメータに連係させる誤差補正テーブルを提供するステップと、前記テーブル内の前記修正を前記レイアウトに少なくとも1回適用することによってレイアウトを補正するステップとを含む。
請求項（抜粋）：
所与のチップ・レイアウト設計に関するパターン形成プロセスの近接補正方法であって、少なくとも1つのレイアウト・パラメータに応じてパターン形成プロセスを記述するステップと、前記少なくとも1つのパラメータの分布を離散化するステップと、レイアウト修正を前記少なくとも1つのパラメータに連係させる誤差補正テーブルを提供するステップと、前記テーブル内の前記修正を前記レイアウトに少なくとも1回適用することによってレイアウトを補正するステップとを含む方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G06F 17/50 658
, H01L 21/027
G03F 1/08 A
, G06F 17/50 658 M
, H01L 21/30 502 P
