特許
J-GLOBAL ID：200903048871259060

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及び永久パターン形成方法

発明者：
高島 正伸

高島 正伸 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-373552
公開番号（公開出願番号）：特開2007-047729
出願日： 2005年12月26日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：
【課題】ソルダーレジストのような永久パターンの形成を目的として、露光感度に優れ、得られるレジスト面形状が良好で、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。【解決手段】バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、増感剤として蛍光増白剤と、を少なくとも含む感光性組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有し、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが0.1〜100mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料、並びにパターン形成装置及び永久パターン形成方法である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、増感剤として蛍光増白剤と、を少なくとも含む感光性組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有し、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが0.1〜100mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/26 ,  H05K 3/28
FI (5件)：
G03F7/004 503Z ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/26 501 ,  H05K3/28 D
Fターム (31件)：
2H025AB15 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA18 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CA31 ,  2H025CA34 ,  2H025CA48 ,  2H025CB42 ,  2H025CB52 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA29 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096EA04 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  2H096LA16 ,  5E314AA27 ,  5E314CC01 ,  5E314FF01 ,  5E314GG04 ,  5E314GG17 ,  5E314GG24
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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