化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：小島隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-276743
公開番号（公開出願番号）：特開2003-177539
出願日： 2002年09月24日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：

【要約】【解決手段】 (A)フッ素原子を少なくとも1個含む繰り返し単位を有する高分子化合物、(B)式(1)の化合物、【化1】(R1、R2はH、F、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基、R1とR2の内少なくとも一方がフッ素原子を含む。R3は単結合又はアルキレン基、R4は少なくとも1個の芳香環又はジエン環を有する炭素数4〜40のn価の有機基、R5はH又はC(=O)R6であり、R6はH又はCH3である。nは2,3又は4である。)(C)有機溶剤、(D)酸発生剤を含有する化学増幅レジスト材料。【効果】本発明のレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、200nm以下、特に170nm以下の波長における感度と透明性が優れている。

請求項（抜粋）：

(A)フッ素原子を少なくとも1個含む繰り返し単位を有する高分子化合物、(B)下記一般式(1)で示される化合物、【化1】(式中、R1、R2は水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基又はフッ素化されたアルキル基であり、R1とR2の内いずれか一方又は双方は少なくとも1個のフッ素原子を含む。R3は単結合又は炭素数1〜4のアルキレン基を示し、R4は少なくとも1個の芳香環又はジエン環を有する炭素数4〜40のn価の有機基であり、R5は水素原子又はC(=O)R6であり、R6は水素原子又はメチル基である。nは2,3又は4である。)(C)有機溶剤、(D)酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅レジスト材料。

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 , C08F214/18 , C08F220/00 , C08F220/22 , C08F234/00 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/039 601 , C08F214/18 , C08F220/00 , C08F220/22 , C08F234/00 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (33件)：

2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J100AB07R , 4J100AC21P , 4J100AC26P , 4J100AC29P , 4J100AF15S , 4J100AL08Q , 4J100BA03R , 4J100BA07Q , 4J100BB18Q , 4J100BB18R , 4J100BB18S , 4J100BC03R , 4J100BC07Q , 4J100BC53R , 4J100CA06 , 4J100DA62 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (12件)

特公平2-27660号公報
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-083404 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-144437 出願人：富士写真フイルム株式会社

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