特許
J-GLOBAL ID：200903049378544518
光学素子及びその製造方法、光学素子用形状転写型の製造方法及び光学素子用転写型
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
本多 章悟
, 樺山 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-240457
公開番号（公開出願番号）：特開2007-057622
出願日： 2005年08月22日
公開日（公表日）： 2007年03月08日
要約：
【課題】単一の高さのサブ波長構造と同様の透過光の位相変調をアスペクトの低い構造により実現し、光利用効率の高い位相変調型の光学素子を提供する。【解決手段】本発明の光学素子は、少なくとも一部の構造体2の高さを空間的に変調させることにより透過光の位相を変化せしめるものであり、使用する光の波長よりも微細な構造を有するので、高さの異なる入射波長よりも周期の狭い微細構造により、透過光の位相変調を実現することができる。また、使用する光の波長をλ、入射角をθ、入射媒体の屈折率をn1、構造体2の屈折率をn2とした場合、構造体の周期がλ/(n1sinθ+n2)以下であることにより、高次の回折による透過光の発生がなくなり、光利用効率の高い光学素子を実現することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
微細構造を有する光学素子であって、
少なくとも一部の構造体の高さを空間的に変調させることにより透過光の位相を変化せしめることを特徴とする光学素子。
IPC (3件)：
G02B 5/18
, B23K 26/36
, B23K 26/04
G02B5/18
, B23K26/36
, B23K26/04 C
2H049AA03
, 2H049AA31
, 2H049AA34
, 2H049AA52
, 2H049AA63
, 2H049AA65
, 4E068CA02
, 4E068CA03
, 4E068CA11
, 4E068CB08
, 4E068CC06
, 4E068CD13
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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