特許
J-GLOBAL ID：200903049515270587

基板に注入した不純物元素の深さ分布を測定する測定方法

発明者：
小島 勇夫

小島 勇夫 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-237947
公開番号（公開出願番号）：特開2007-051955
出願日： 2005年08月18日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：
【課題】平坦な基板に数十nmの深さに注入した不純物の深さ分布を非破壊で精度よく測定する方法を提供する。【解決手段】数十nmの深さに不純物を注入した基板に、入射角度を走査しながらX線を入射し、被測定試料によって反射されたX線の干渉振動曲線を測定し、干渉振動曲線のデータから、被測定試料に注入された不純物元素の深さ分布を測定する。干渉振動曲線のデータの解析は、X線反射率を表す解析式に干渉振動曲線をフィッティングすることにより行う。この際、不純物分布を適当な関数に近似し、関数に含まれるパラメータを最適化することにより深さ分布を得る。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
不純物を注入した平坦な基板からなる被測定試料に、入射角度を走査しながらX線を入射し、前記被測定試料によって反射された前記X線の干渉振動曲線を測定し、前記干渉振動曲線のデータから、前記被測定試料表面に注入された不純物元素の深さ分布を測定することを特徴とする不純物元素の深さ分布測定方法。
IPC (2件)：
G01N 23/20 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G01N23/20 ,  H01L21/66 N
Fターム (19件)：
2G001AA01 ,  2G001BA15 ,  2G001CA01 ,  2G001FA02 ,  2G001FA29 ,  2G001GA08 ,  2G001GA13 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001NA07 ,  4M106AA01 ,  4M106BA20 ,  4M106CB02 ,  4M106DH12 ,  4M106DH25 ,  4M106DH34 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM