シリカ

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：真田有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-278795
公開番号（公開出願番号）：特開2003-171112
出願日： 2002年09月25日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
要約：

【要約】【課題】特に触媒担体や吸着剤として好適に使用し得るシリカを提供する。【解決手段】小角X線散乱スペクトルのギニエプロット(X線散乱強度-q2値)で得られるプロフィールにおいて、q2値が6×10-3(Å-2)以下の領域には変曲点が存在しないことを特徴とする。斯かるシリカは、シリコンアルコキシドを加水分解すると共に得られたシリカヒドロゾルを縮合してシリカヒドロゲルを形成する加水分解・縮合工程と、当該加水分解・縮合工程に引き続きシリカヒドロゲルを熟成することなく水熱処理する物性調節工程とを包含する方法で製造される。

請求項（抜粋）：

小角X線散乱スペクトルのギニエプロット(X線散乱強度-q2値)で得られるプロフィールにおいて、q2値が6×10-3(Å-2)以下の領域には変曲点が存在しないことを特徴とする、シリカ。

IPC (2件)：

C01B 33/152 , C01B 33/158

FI (2件)：

C01B 33/152 , C01B 33/158

Fターム (19件)：

4G072AA28 , 4G072BB05 , 4G072CC10 , 4G072DD08 , 4G072DD09 , 4G072GG01 , 4G072HH30 , 4G072JJ11 , 4G072MM01 , 4G072MM21 , 4G072PP01 , 4G072PP03 , 4G072RR05 , 4G072RR19 , 4G072TT01 , 4G072TT05 , 4G072TT09 , 4G072UU11 , 4G072UU17

引用特許：

出願人引用 (11件)

高い比表面積とコントロールされた高構造性を有するシリカゲル及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-284958 出願人：日本シリカ工業株式会社
特開平2-184514
特開平2-196015

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審査官引用 (11件)

高い比表面積とコントロールされた高構造性を有するシリカゲル及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-284958 出願人：日本シリカ工業株式会社
特開平2-184514
特開平2-196015

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