特許
J-GLOBAL ID：200903050264867587
ウエハパターン転写形状のCAD管理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂上 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-384723
公開番号（公開出願番号）：特開2003-188074
出願日： 2001年12月18日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
要約：
【要約】【課題】 理想的な転写形状を考慮したウエハパターンのCAD設計のための効率の良い設計環境を実現すること。【解決手段】 CAD装置を用いて設計されたウエハパターンのCAD図形を示すCADデータと、該CADデータに基づいてウエハ上に実際に形成されたウエハパターン転写形状とを比較してCAD図形の設計の最適化を図るため、CADマッチング装置2によって輪郭データA、CAD線分データB、差異情報Cを得、これらのデータをCADデータ管理装置3において一元管理し、CADによるパターン設計の最適化を図ることを容易ならしめたるようにした。
請求項（抜粋）：
CAD装置を用いて設計されたウエハパターンのCAD図形を示すCADデータと、該CADデータに基づいてウエハ上に形成された転写形状とをウエハパターンの最適化設計のために一元的に管理するためのウエハパターン転写形状のCAD管理装置であって、ウエハ上に転写されたパターンの所要のSEM画像を取り込んで作成された輪郭データと、前記SEM画像に対応するCAD線分データと、前記SEM画像と前記CAD線分データに従うCAD図形との寸法差異に関する差異情報とを出力するCADマッチング部と、前記輪郭データと前記CAD線分データと前記差異情報とを管理するためのCADデータ管理装置とを備え、前記輪郭データと前記CAD線分データと前記差異情報とに基づいて前記CADデータの表示、検証を行うことができるようにしたことを特徴とするウエハパターン転写形状のCAD管理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 V
