特許
J-GLOBAL ID：200903050516620881

接合方法

発明者：
渡辺 吉彦

渡辺 吉彦 について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-324878
公開番号（公開出願番号）：特開2007-130836
出願日： 2005年11月09日
公開日（公表日）： 2007年05月31日
要約：
【課題】特定波長の紫外線を利用して、ポリジメチルシロキサンよりなる基材およびガラスまたはシリコンよりなる基材とを接合する方法において、これら2つの基材を確実に接合することのできる接合方法を提供すること。【解決手段】ポリジメチルシロキサンよりなる一方の基材と、ガラスまたはシリコンよりなる他方の基材との接合方法であって、波長172nmの光を含む紫外線を、照射量が27〜180mW/cm2 ・秒となる条件で、前記一方の基材に照射する紫外線照射処理工程と、紫外線照射処理がなされた一方の基材と他方の基材とを重ね合わせて密着させ、この状態を少なくなくとも20分以上保持する密着処理工程とを有する。この接合方法においては、密着処理工程が、紫外線照射処理工程が行われた後1分間以内の時間範囲内に行われることが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ポリジメチルシロキサンよりなる一方の基材と、ガラスまたはシリコンよりなる他方の基材とを接合する方法であって、 波長172nmの光を含む紫外線を、照射量が27〜180mW/cm2 ・秒となる条件で、前記一方の基材に照射する紫外線照射処理工程と、 紫外線照射処理がなされた一方の基材と他方の基材とを重ね合わせて密着させ、この状態を少なくなくとも20分以上保持する密着処理工程と を有することを特徴とする接合方法。
IPC (1件)：
B29C 65/14
FI (1件)：
B29C65/14
Fターム (8件)：
4F211AA33 ,  4F211AD04 ,  4F211AH81 ,  4F211TA13 ,  4F211TA16 ,  4F211TD11 ,  4F211TH24 ,  4F211TN26
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (8件)
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