特許
J-GLOBAL ID：200903051445212961
パターン欠陥検査方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
作田 康夫
, 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-001603
公開番号（公開出願番号）：特開2005-156516
出願日： 2004年01月07日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】 高出力のパルス光による試料へのダメージを低減しつつ高速・高感度に検査を行う。【解決手段】 パルスレーザ光源3から射出された光を、擬似連続化光学系4、ビーム形成光学系5、干渉性低減光学系6を通し、変形照明光学系7で偏向されたビームをPBS8で反射し、ウェハ1に照射する。ウェハ1からの回折光は対物レンズ10で集光され、光変調ユニット9、11を通して、視野分割並列検出部12にて複数のイメージセンサに結像し、信号処理部13にて欠陥を検出する。ここで、擬似連続化光学系4は、パルス光を時分割することにより、1パルス当たりのエネルギーを低減しつつ、パルス光の総光量は維持できる光学系を有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
照明光をパルス発振する照明光源と、
該照明光源からパルス発振された照明光の強度を低減すると共に該照明光の光量を時間的に平均化する擬似連続化手段と、
該擬似連続化手段で光量を調整された前記照明光の干渉性を低減する干渉性低減手段と、
該干渉性低減手段から干渉性が低減されて射出した前記照明光を表面にパターンが形成された試料に対物レンズを介して照射する照射手段と、
該照射手段により前記照明光が照射された試料から発生する回折光を結像する結像手段と、
該結像手段により形成された前記試料の回折光像を撮像して画像信号を出力する画像検出手段と、
該画像検出手段から出力された前記画像信号を処理して前記試料のパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段と
を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051AB07
, 2G051BA10
, 2G051BB05
, 2G051BB07
, 2G051BB20
, 2G051CA02
, 2G051CA03
, 2G051CA04
, 2G051CA07
, 2G051CB01
, 2G051EA11
, 2G051EA12
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (9件)
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