特許
J-GLOBAL ID：200903051480337130
ハイドレート生成方法および生成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石井 博樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-057518
公開番号（公開出願番号）：特開2005-247920
出願日： 2004年03月02日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：
【課題】本発明の課題は、コンパクトな装置構成で簡易かつ効率的にハイドレートを生成することができるハイドレート生成方法およびこの方法に好適なハイドレート生成装置を提供することにある。【解決手段】原料水を冷却して氷を生成する氷生成部10と、ハイドレート生成温度領域内で氷の一部を融解させて水とし、この水をハイドレート形成物質と反応させてハイドレートを生成するハイドレート生成部20と、さらに必要に応じて、氷生成部10からハイドレート生成部20に導入される氷全量をハイドレート化するのに要する以上のハイドレート形成物質をハイドレート生成部20に導入する過剰導入手段63、63と、を備えていることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
原料水を冷却して氷を生成する氷生成工程と、
ハイドレート生成温度領域内で前記氷の一部を融解させ、ハイドレート生成熱を前記氷の冷熱によって除去しながらハイドレートを生成するハイドレート生成工程と、を含むことを特徴とする、ハイドレート生成方法。
IPC (6件)：
C10L3/06
, C07B61/00
, C07B63/02
, C07C5/00
, C07C7/20
, C07C9/04
C10L3/00 A
, C07B61/00 C
, C07B63/02 B
, C07C5/00
, C07C7/20
, C07C9/04
出願人引用 (1件)
審査官引用 (9件)
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