特許
J-GLOBAL ID：200903052026343254
含フッ素ビニルエーテルおよびそれを使用した含フッ素重合体、ならびに含フッ素重合体を使用したレジスト材料
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-320871
公開番号（公開出願番号）：特開2004-155680
出願日： 2002年11月05日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：
【課題】光の散乱や吸収が少なく、高透明性が要求されるレジスト材料のベースとなり得るポリマーおよびそのポリマーの原料となり得るモノマーを提供することにある。【解決手段】下記一般式(1)で表される含フッ素ビニルエーテル化合物。【化1】(式中、Rはフッ素原子を少なくとも1個含有し、環状構造を有する有機基を表す。)本発明の含フッ素ビニルエーテルは、各種のモノマーとの共重合が可能であり、得られた含フッ素重合体は溶剤への溶解性、透明性に優れる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される含フッ素ビニルエーテル。
IPC (7件)：
C07C43/192
, C07C43/196
, C07C43/225
, C07C43/23
, C08F16/14
, G03F7/027
, G03F7/039
C07C43/192
, C07C43/196
, C07C43/225 C
, C07C43/23 C
, C08F16/14
, G03F7/027
, G03F7/039 601
2H025AA07
, 2H025AA10
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BC23
, 2H025BC83
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB46
, 4J100AE09P
, 4J100BA03P
, 4J100BA05P
, 4J100BA06P
, 4J100BA16P
, 4J100BA20P
, 4J100BB07P
, 4J100BB10P
, 4J100BB12P
, 4J100BB13P
, 4J100BB17P
, 4J100BB18P
, 4J100BC03P
, 4J100BC04P
, 4J100BC12P
, 4J100BC43P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100JA37
