特許
J-GLOBAL ID：200903029964377174

ポジ型レジスト組成物

発明者：
水谷 一良

水谷 一良 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-223386
公開番号（公開出願番号）：特開2004-062049
出願日： 2002年07月31日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。【解決手段】(A)スルホネート構造の側鎖をもった特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(I)で表される繰り返し単位及び下記一般式(II)〜(IV)で表される繰り返し単位の群から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039 ,  C08F228/02 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  C08F228/02 ,  H01L21/30 502R
Fターム (42件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AB02R ,  4J100AP01P ,  4J100AR11Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA12P ,  4J100BA12Q ,  4J100BA22Q ,  4J100BA22R ,  4J100BB10P ,  4J100BB10Q ,  4J100BB10R ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC27P ,  4J100BC43P ,  4J100CA03 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (25件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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