特許
J-GLOBAL ID：200903052046969710

光学素子製造方法および光学素子

発明者：
梅木 和博

梅木 和博 について


出願人/特許権者：
リコー光学株式会社

リコー光学株式会社 について


代理人 (3件)： 本多 章悟 ,  樺山 亨 ,  工藤 修一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-251363
公開番号（公開出願番号）：特開2009-080434
出願日： 2007年09月27日
公開日（公表日）： 2009年04月16日
要約：
【課題】所望の光学機能をもち、設計所自由度が大きい光学素子を高い歩留まりで製造できる光学素子製造方法を提供する。【解決手段】基板11上にSiO2を骨格とする重縮合材料を液状で塗布する塗布工程と、塗布形成された塗布層120に対してプリベークを行って塗布層をゲル化してゲル層121とするプリベーク工程と、得られたゲル層121に対して、微細な凹凸構造に反転的に対応する表面形状を有する押型200を押圧した状態で、熱および/または光によりゲル層121を硬化して、表面形状の反転形状をゲル層に転写する転写工程と、転写工程後に、硬化したゲル層である硬化層122から押型200を型抜きする型抜き工程とを有し、プリベーク工程におけるゲル化の程度を押型200の表面形状の転写に適したゲル化状態に調整する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
SiO2を骨格とする重縮合材料の層を基板上に有し、上記層の表面形状が微細凹凸構造をなす光学素子を製造する光学素子製造方法において、 基板上に、SiO2を骨格とする重縮合材料を液状で塗布し、塗布により形成された塗布層に対してプリベークを行って、塗布層をゲル化してゲル層とする塗布・プリベーク工程を1回以上行って基板上に所望厚さのゲル層を形成し、 上記塗布・プリベーク工程により形成された所望厚さのゲル層に対して、上記微細凹凸構造に反転的に対応する所定の表面形状を有する押型の上記表面形状の形成された面を押圧した状態で、熱および/または光により上記ゲル層を硬化して、上記表面形状の反転形状を上記ゲル層に転写し、硬化したゲル層である硬化層から上記押型を型抜きすることを特徴とする光学素子製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/18 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
G02B5/18 ,  B29C59/02 Z
Fターム (24件)：
2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA40 ,  2H049AA41 ,  2H049AA45 ,  2H249AA03 ,  2H249AA13 ,  2H249AA40 ,  2H249AA41 ,  2H249AA45 ,  4F209AA33 ,  4F209AB11 ,  4F209AB17 ,  4F209AC05 ,  4F209AC06 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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