特許
J-GLOBAL ID：200903048066491917

位相シフター光学素子その製造方法及び得られる素子

発明者：
梅木 和博

梅木 和博 について


出願人/特許権者：
リコー光学株式会社

リコー光学株式会社 について


代理人 (1件)： 野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-074428
公開番号（公開出願番号）：特開2006-261265
出願日： 2005年03月16日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：
【課題】 光の位相を制御する位相シフタを、バラツキの少ない工程で製造し、従来より安価に、耐久性の高い製品を大量生産する。 【解決手段】 微細表面構造をもつ物品を製造するために、工程として、 (A)表面に微細形状をもつ金型の表面に硬化可能な転写材料を介して製品基板を押し当てて、前記金型の表面形状の反転形状を前記転写材料に転写する工程、 (B)前記転写材料を硬化させる工程、及び (C)前記転写材料を前記製品基板に接合させた状態でその転写材料を前記金型から剥離させる工程、を順に備えている。製造される物品は表面に微細な凹凸の繰返しパターンをもつ位相シフター光学素子である。転写材料の好ましい例は、水素シルセスキオキサン材料、ゾル-ゲル材料、又は有機・無機ハイブリッド材料である。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
微細表面構造をもつ物品を製造する方法であって、 工程として、 (A)製品基板表面に感光性材料を塗布する工程、 (B)予め用意した濃度分布マスクを用いて前記感光性材料を露光する工程、 (C)前記感光性材料を現像しリンスしてパターン化する工程、及び (D)前記感光性材料の形状を前記製品基板に転写するドライエッチング工程、を順に備えており、 前記濃度分布マスクは透明基板上に2次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成されたものであり、前記遮光パターンは適当な形状及び大きさの単位セルにより隙間なく分割され、各単位セル内の遮光パターンがそれにより形成される前記感光性材料パターンの対応した位置の高さに応じた光透過量又は遮光量となるように設定されていることにより前記遮光パターンが構成されているものであり、 製造される前記物品が表面に微細な凹凸の繰返しパターンをもつ位相シフター光学素子であることを特徴とする製造方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G02B 5/18
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  G02B5/18
Fターム (11件)：
2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA37 ,  2H049AA40 ,  2H049AA41 ,  2H049AA43 ,  2H049AA57 ,  2H049AA64 ,  2H049AA66 ,  5F046AA28 ,  5F046CB27
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (34件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)
  • 回折光学による光コンポーネントとその応用

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