特許
J-GLOBAL ID：200903052633218426
パターン形成体の製造方法、および、パターン形成体製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-378186
公開番号（公開出願番号）：特開2007-178783
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：
【課題】本発明は真空紫外光を用いて高精細なパターン状の真空紫外光照射処理が施されたパターン形成体を高感度で製造できる、パターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、パターン形成用基板のパターン形成面上にメタルマスクを配置し、上記メタルマスクを上記パターン形成用基板の上記パターン形成面とは反対面側から磁石によって固定する、メタルマスク固定工程と、上記パターン形成面上に固定されたメタルマスクを介して上記パターン形成面に真空紫外光を照射する、真空紫外光照射工程とにより、上記パターン形成面がパターン状に真空紫外光照射処理されたパターン形成体を製造することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決するものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パターン形成用基板のパターン形成面上にメタルマスクを配置し、前記メタルマスクを前記パターン形成用基板の前記パターン形成面とは反対面側から磁石によって固定する、メタルマスク固定工程と
前記パターン形成面上に固定されたメタルマスクを介して前記パターン形成面に真空紫外光を照射する、真空紫外光照射工程と、
を行うことにより、前記パターン形成面がパターン状に真空紫外光照射処理されたパターン形成体を製造することを特徴とする、パターン形成体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2H097BA10
, 2H097CA12
, 2H097CA13
, 2H097FA04
, 2H097LA11
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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