特許
J-GLOBAL ID:200903041186394546

物質の空間精密配置技術

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須藤 政彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-064678
公開番号(公開出願番号):特開2005-289055
出願日: 2005年03月08日
公開日(公表日): 2005年10月20日
要約:
【課題】ポリマー等の基板表面に、予めセラミックス薄膜を形成して、下地の基板表面の影響を受け難くすることにより、基板表面の所定の位置に、固定化される物質を選択的に析出させることを可能とした自己組織化単分子膜形成基板を提供する。【解決手段】機能性物質等を、その表面上の空間に精密に配置することが可能な基板であって、基板の表面に、セラミックス前駆体の一種又はそれ以上の薄膜を気相から形成した後、この薄膜に、プラズマ、紫外線又は電子線を照射することにより形成したセラミックス薄膜に、自己組織化単分子膜を形成した基板、及びその製造方法。【効果】本発明は、表面エネルギーの低い、ポリマー等にも適用可能であり、高密度、高配向な自己組織化単分子膜を密着良く、セラミックス薄膜上に形成した基板を提供できる。【選択図】図6
請求項(抜粋):
無機薄膜で被覆した基材上に、末端官能基を有する自己組織化単分子膜を形成したことを特徴とする自己組織化単分子膜形成基板。
IPC (5件):
B32B18/00 ,  B32B15/04 ,  B32B31/28 ,  B82B3/00 ,  C23C28/00
FI (5件):
B32B18/00 C ,  B32B15/04 B ,  B32B31/28 ,  B82B3/00 ,  C23C28/00 Z
Fターム (36件):
4F100AA37C ,  4F100AB01C ,  4F100AB21 ,  4F100AD00B ,  4F100AD00C ,  4F100AG00C ,  4F100AH02A ,  4F100AH03A ,  4F100AH04A ,  4F100AH08A ,  4F100AH08B ,  4F100AK01C ,  4F100AK49 ,  4F100BA03 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH66B ,  4F100EH662 ,  4F100EJ533 ,  4F100EJ54B ,  4F100EJ543 ,  4F100EJ613 ,  4F100GB43 ,  4F100JL01 ,  4F100JL04 ,  4K044AA11 ,  4K044AA16 ,  4K044AB01 ,  4K044AB02 ,  4K044AB03 ,  4K044BA12 ,  4K044BA21 ,  4K044BB02 ,  4K044BB10 ,  4K044CA14 ,  4K044CA53
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (9件)
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