蒸着装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：石島茂男 , 阿部英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-135854
公開番号（公開出願番号）：特開2006-312764
出願日： 2005年05月09日
公開日（公表日）： 2006年11月16日
要約：

【課題】同軸型真空アーク蒸着源を用いる薄膜の形成において欠陥の無い薄膜を形成する。【解決手段】カソード電極43を筒状のアノード電極31の開口よりも外側に配置し、カソード電極43から放射方向に飛び出す巨大ドロップレットをアノード電極31の壁面に衝突させず、小ドロップレットを生成させない。ホルダ12の方向に飛び出した巨大ドロップレットは回転する羽根部材22に衝突し、フィルタ装置20を通過できず、微小粒子だけが通過し、成膜対象物5の表面に欠陥の無い薄膜が形成される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

真空槽と、前記真空槽内に配置された蒸着源と、成膜対象物が配置されるホルダとを有し、前記蒸着源は、筒状のアノード電極と、蒸着材料で構成されたカソード電極と、前記カソード電極近傍に配置されたトリガ電極とを有し、前記カソード電極と前記トリガ電極との間にトリガ放電を発生させ、前記カソード電極と前記アノード電極の間にアーク放電を誘起させ、前記カソード電極を蒸発させ、前記蒸気を前記ホルダに配置された成膜対象物表面に到達させ、前記成膜対象物表面に薄膜を成長させる成膜装置であって、前記カソード電極は、前記アノード電極の先端であって、前記アノード電極で囲まれた領域の外部に配置された蒸着装置。

IPC (4件)：

C23C 14/24 , H01L 21/285 , H01L 43/08 , H01L 43/12

FI (4件)：

C23C14/24 F , H01L21/285 P , H01L43/08 Z , H01L43/12

Fターム (8件)：

4K029AA06 , 4K029BA01 , 4K029BA06 , 4K029BC06 , 4K029BD01 , 4K029CA01 , 4K029DB03 , 4M104DD34

引用特許：

出願人引用 (9件)

成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-087902 出願人：株式会社アルバック
蒸着源及び成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-172607 出願人：株式会社アルバック
成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-205206 出願人：三菱マテリアル株式会社

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審査官引用 (1件)

真空アーク蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-213560 出願人：株式会社神戸製鋼所

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