基板洗浄装置の処理チャンバ装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐野章吾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-357107
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163159
出願日： 1996年12月03日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】ウエハを一枚ずつカセットレスでウェット洗浄することにより、パーティクルの再付着等もなく高い清浄度雰囲気での洗浄を高精度に行なう基板洗浄装置において、密閉された洗浄室内を形成する処理チャンバ装置を提供する。【解決手段】上部がウエハWを搬入出する大径円筒部25とされるとともに、下部がウエハWを洗浄処理する小径円筒部26とされてなり、大径円筒部25の側部には、ウエハWを搬入出するためのゲート部16が設けられるとともに、小径円筒部26の内径寸法は、ウエハWを水平状態で収容し得る大きさに設定されている。

請求項（抜粋）：

基板を一枚ずつ複数の洗浄液で洗浄処理する枚葉式の洗浄装置に設けられる密閉型容器であって、上部が基板を搬入出する大径円筒部とされるとともに、下部が基板を洗浄処理する小径円筒部とされ、前記大径円筒部の側部に基板を搬入出するためのゲート部が設けられ、前記小径円筒部の内径寸法は、基板を水平状態で収容し得る大きさに設定されていることを特徴とする基板洗浄装置の処理チャンバ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 341 T , H01L 21/304 341 N

引用特許：

審査官引用 (6件)

洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-153280 出願人：株式会社日立製作所
基板乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-248808 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
枚葉式基板洗浄方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-023125 出願人：株式会社セミテクノ, 株式会社スガイ

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