基板処理装置および基板処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-279749
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102289
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】液切りローラやリンス液の汚染を防止できるとともに、処理能力が高い基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】処理部2の基板搬入口上部には、基板表面に現像液を供給して、現像液の液層20を形成するためのスリットノズル5が設けられている。スリットノズル5には、搬送方向と直交する方向に沿って処理液供給口が設けられており、スリットノズル5は、処理液供給口が基板Aの搬送方向に向くように傾斜配置されている。また、スリットノズル5の下流位置であって、基板Aの搬送方向長さより下流位置には、現像処理された基板A表面の液層20に向けて現像液を供給し、基板A上の現像液を液置換するためのスリットノズル6が設けられている。スリットノズル6には、搬送方向と直交する方向に沿って処理液供給口が設けられており、スリットノズル6は、処理液供給口が基板Aの搬送方向と対向する方向に傾斜配置されている。また、スリットノズル6の下流には、液置換された基板A上に残留する現像液を除去するための液切りローラ15が設けられている。

請求項（抜粋）：

基板を所定の方向に搬送して処理をおこなう基板処理装置において、基板を搬送する搬送手段と、搬送される基板表面に処理液を供給して基板表面上に処理液の液層を形成する液層形成手段と、処理液により処理された基板表面にさらに処理液を供給して処理液の液層を液置換する液置換手段と、液置換された基板表面の処理液を除去する処理液除去手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/027 , B08B 3/02 , B65G 49/06 , H01L 21/304 643 , H01L 21/304 648 , H01L 21/306 , H01L 21/68

FI (8件)：

B08B 3/02 B , B65G 49/06 Z , H01L 21/304 643 B , H01L 21/304 648 A , H01L 21/68 A , H01L 21/30 569 D , H01L 21/30 569 E , H01L 21/306 R

Fターム (23件)：

3B201AA02 , 3B201AB14 , 3B201BA08 , 3B201BB21 , 3B201BB92 , 3B201CB15 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 3B201CC14 , 3B201CD22 , 5F031CA05 , 5F031CA20 , 5F031GA53 , 5F031MA23 , 5F031MA24 , 5F031NA04 , 5F043BB27 , 5F043CC12 , 5F043DD13 , 5F043EE07 , 5F043EE36 , 5F043EE40 , 5F046LA11

引用特許：

出願人引用 (9件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-016511 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-126596 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
フォトリソグラフィにおける現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-235371 出願人：シャープ株式会社

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審査官引用 (6件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-016511 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-126596 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
フォトリソグラフィにおける現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-235371 出願人：シャープ株式会社

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