特許
J-GLOBAL ID：200903055058549481
フォトレジスト用のトップコーティング組成物及びそれを利用したフォトレジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-336171
公開番号（公開出願番号）：特開2006-146232
出願日： 2005年11月21日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】液浸リソグラフィ工程に適用されうるフォトレジスト用のトップコーティング組成物、及び液浸リソグラフィ工程によるフォトレジストパターンの形成方法を提供する。【解決手段】カルボキシル基またはスルホン酸基を含有するポリマー、塩基及び純水を含む溶媒からなるトップコーティング組成物である。本発明によるトップコーティング組成物で構成されたトップコーティング膜は、TAGを利用するか、または水に浸漬させる方法により水に溶けない不溶性膜に形成されうる。このように得られた不溶性のトップコーティング膜をバリヤーとして使用して液浸リソグラフィ工程を行うことによって、液浸媒体を通じた露光中にフォトレジスト成分が液浸媒体に溶解されることを防止できる。【選択図】図1D
請求項（抜粋）：
カルボキシル基またはスルホン酸基を含有するポリマーと、
塩基と、
純水を含む溶媒と、からなることを特徴とするトップコーティング組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/11
, H01L 21/027
, G03F 7/38
G03F7/11 501
, H01L21/30 502R
, G03F7/38 501
2H025AA00
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 2H025CB41
, 2H025DA02
, 2H025DA03
, 2H025FA01
, 2H025FA03
, 2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096DA01
, 2H096EA00
, 2H096EA27
, 2H096GA08
, 2H096JA02
, 2H096LA30
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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