特許
J-GLOBAL ID：200903055253780910

溶剤組成物、およびレジストの現像方法

発明者：
岡本 秀一

岡本 秀一 について

, 
白川 大祐

白川 大祐 について


出願人/特許権者：
旭硝子株式会社

旭硝子株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-159564
公開番号（公開出願番号）：特開2005-338609
出願日： 2004年05月28日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】リンス剤を除去、乾燥させる際に、微細なレジストパターンが倒壊する問題のない優れた溶剤組成物の提供。【解決手段】ウエハの表面にフォトレジストを塗布し、露光する工程、露光されたレジストを現像液によって現像する現像工程、水系のリンス剤を用いて現像液を洗浄、除去する第1のリンス工程、含フッ素化合物からなる溶剤とフッ素系界面活性剤とを含有する溶剤組成物を用いて水系のリンス剤を除去する第2のリンス工程、上記溶剤組成物を除去する乾燥工程を、この順序で実施する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
微細パターンが形成された構造体のリンス工程および/または洗浄工程に用いる、含フッ素化合物からなる溶剤およびフッ素系界面活性剤を含有する溶剤組成物。
IPC (2件)：
G03F7/32 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/32 501 ,  H01L21/30 569E
Fターム (5件)：
2H096AA25 ,  2H096GA17 ,  2H096GA18 ,  2H096GA20 ,  5F046LA12
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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