リソグラフィー用リンス液

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：阿形明 , 水口崇敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-129096
公開番号（公開出願番号）：特開2005-309260
出願日： 2004年04月23日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】接触角が40度以下のレジストパターンの表面を、接触角70度以上に改質してパターン倒れを効果的に防止し、高品質の製品を製造する新規なリンス液を提供する。【解決手段】一般式(R1及びR2は、それぞれ水素原子の一部又は全部がフッ素原子により置換された炭素数1〜5のアルキル基若しくは置換アルキル基であり、R1とR2はたがいに連結して両者が結合しているSO2及びNとともに五員環又は六員環を形成していてもよい)で表わされる水又はアルコール系溶剤可溶性フッ素化合物の中から選ばれた少なくとも1種を含有する溶液からなるリソグラフィー用リンス液とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式

IPC (2件)：

G03F7/32 , H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/32 501 , H01L21/30 569E

Fターム (7件)：

2H096AA25 , 2H096BA01 , 2H096BA09 , 2H096GA18 , 2H096HA02 , 2H096LA30 , 5F046LA12

引用特許：

出願人引用 (9件)

レジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-146873 出願人：株式会社ソルテック
レジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-129326 出願人：株式会社ソルテック
レジストリンス液、及びレジスト現像処理法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-146137 出願人：日本電信電話株式会社

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審査官引用 (6件)

フォトレジスト・パターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-031631 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
レジスト現像方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-016107 出願人：株式会社日立製作所
現像工程におけるフォトレジストパターンの倒れを防止する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-286834 出願人：三菱電機株式会社

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