特許
J-GLOBAL ID：200903055479697510
電子材料用洗浄水、その製造方法及び電子材料の洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-197782
公開番号（公開出願番号）：特開平11-029794
出願日： 1997年07月08日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：
【要約】【課題】微粒子により汚染された半導体用シリコーン基板、液晶用ガラス基板などの電子材料を、使用する薬剤の量が少なく、しかも効率よく高い汚染物除去率で洗浄することができる電子材料用洗浄水を提供する。【解決手段】(1)溶存水素濃度が0.7mg/リットル以上飽和濃度以下であり、pHが6〜12である超純水からなることを特徴とする電子材料用洗浄水、(2)超純水を脱気し、ガス透過膜を介して水素ガスを供給するとともに、アルカリを添加することを特徴とする該電子材料用洗浄水の製造方法、及び、(3)微粒子で汚染された電子材料を、該電子材料用洗浄水と超音波を照射しながら接触させることを特徴とする電子材料の洗浄方法。
請求項（抜粋）：
溶存水素濃度が0.7mg/リットル以上飽和濃度以下であり、pHが6〜12である超純水からなることを特徴とする電子材料用洗浄水。
IPC (6件)：
C11D 7/02
, B01D 19/00
, B01D 53/22
, B08B 3/12
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
C11D 7/02
, B01D 19/00 H
, B01D 53/22
, B08B 3/12 A
, H01L 21/304 341 L
, H01L 21/304 341 M
