特許
J-GLOBAL ID：200903055844264750
CIP用洗浄剤組成物
発明者：
,
,
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
古谷 聡
, 溝部 孝彦
, 持田 信二
, 義経 和昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-204334
公開番号（公開出願番号）：特開2005-200627
出願日： 2004年07月12日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：
【課題】 CIP洗浄において効率良く残存フレーバーを除去でき、洗浄後に溶剤臭が殆ど残存しないCIP用洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】 炭素数5〜24の炭化水素化合物等の25°CでのSP値が6〜9である溶剤(A)及び非イオン界面活性剤等の界面活性剤(B)を含有するCIP用洗浄剤組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
25°CでのSP値が6〜9である溶剤(A)及び界面活性剤(B)を含有するCIP用洗浄剤組成物。
IPC (5件)：
C11D3/43
, B08B3/08
, B08B9/027
, B08B9/08
, C11D3/18
C11D3/43
, B08B3/08 Z
, B08B9/08
, C11D3/18
, B08B9/06
3B116AA13
, 3B116AA33
, 3B116AA47
, 3B116AB53
, 3B116BB62
, 3B201AA13
, 3B201AA33
, 3B201AA47
, 3B201AB53
, 3B201BB62
, 3B201BB92
, 4H003AB22
, 4H003AC03
, 4H003AC05
, 4H003AD04
, 4H003AE05
, 4H003BA12
, 4H003DA12
, 4H003DC03
, 4H003ED03
, 4H003FA21
出願人引用 (6件)
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CIP洗浄用脱臭剤組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-236337
出願人：旭電化工業株式会社, 株式会社アデカクリーンエイド
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洗浄剤組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-221651
出願人：大三工業株式会社
-
ビール醸造設備用酸性洗浄剤
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-014539
出願人：大三工業株式会社
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審査官引用 (9件)
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