特許
J-GLOBAL ID：200903056701027222

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者：
ラルフ クルト

ラルフ クルト について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-370724
公開番号（公開出願番号）：特開2004-153279
出願日： 2003年10月30日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】本発明は、フィジカルアタックおよびケミカルアタックに対し高い耐性を有する、かつ寿命が改善された光学素子を提供することを目的とする。【解決手段】EUVリソグラフィ装置における多層ミラーといったような、1つ以上のバックミンスターフラーレンを含有する少なくとも1層を有する光学素子を提供する。典型的にバックミンスターフラーレンはキャッピング層として存在し、光学素子のアウターキャッピング層として提供されるか、あるいは、異なる材料から形成されたアウターキャッピング層に隣接するサブキャッピング層を形成する。代替的または追加的に、バックミンスターフラーレン含有層は多層ミラーにおける2層間の中間層として存在する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムとから成るリソグラフィ投影装置において、1つ以上のバックミンスターフラーレンからなる少なくとも1層を有する少なくとも1つの光学素子を備えていることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G21K5/02
FI (6件)：
H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503 ,  G21K1/06 C ,  G21K1/06 B ,  G21K5/02 X ,  H01L21/30 518
Fターム (9件)：
2H097AA02 ,  2H097AA03 ,  2H097AB09 ,  2H097BA10 ,  2H097CA15 ,  2H097EA01 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046GB01
引用特許：
審査官引用 (7件)
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