特許
J-GLOBAL ID：200903056764093837
光制御素子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤島 洋一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-402209
公開番号（公開出願番号）：特開2005-164861
出願日： 2003年12月01日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】 残留応力の影響を小さくし、反射部材の平坦性を向上させることができる光制御素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】 反射膜20が設けられた反射部材10が、固定部材30に対して支持部材40により変位可能に固定されている。この光制御素子は、保持基板の表面に酸化層および半導体薄膜が順に積層されたいわゆるSOI基板を用い、反射部材10の形成予定領域を残して半導体薄膜を選択的に除去し、固定部材30の形成予定領域を残して保持基板および酸化層を選択的に除去することにより製造される。反射膜20の厚みは500nm以下とされることが好ましい。反射膜20の残留応力による反射部材10の反りを抑制し、反射部材10の平坦性を向上させることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光の進路を変更する光制御素子であって、
反射部材と、
この反射部材に設けられた厚み500nm以下の反射膜と
を備えたことを特徴とする光制御素子。
IPC (5件)：
G02B26/10
, B81B3/00
, B81C1/00
, G02B26/08
, H04N1/113
G02B26/10 104Z
, B81B3/00
, B81C1/00
, G02B26/08 E
, H04N1/04 104Z
2H041AA12
, 2H041AB14
, 2H041AC07
, 2H041AZ08
, 2H045AB73
, 2H045BA02
, 2H045BA18
, 2H045DA31
, 5C072AA01
, 5C072BA13
, 5C072BA17
, 5C072DA04
, 5C072HA02
, 5C072HA11
, 5C072XA10
出願人引用 (1件)
審査官引用 (9件)
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