多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-217795
公開番号（公開出願番号）：特開2007-073949
出願日： 2006年08月10日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：

【課題】表面平滑性が高く露光光反射率を高められ低欠陥の多層反射膜付き基板、転写欠陥がなく多層反射膜の露光光反射率を高めた高品質の反射型マスクブランク、マスクの反射面での表面欠陥に起因するパターン欠陥の無い、パターン転写性に優れた高品質の反射型マスクを提供する。【解決手段】基板1上に、下地膜6を成膜する。該下地膜6は、直入射成膜工程と斜入射成膜工程とを組み合わせて成膜する。該下地膜6上に多層反射膜2を成膜して多層反射膜付き基板30を得る。この多層反射膜付き基板30の多層反射膜2上に吸収体膜を形成して反射型マスクブランクとする。また、この反射型マスクブランクの吸収体膜にパターンを形成して反射型マスクを得る。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板上に、露光光を反射する多層反射膜を有する多層反射膜付き基板の製造方法であって、前記基板上に、前記基板に向かってターゲットからの飛散粒子が垂直もしくは略垂直な方向から入射するように成膜する直入射成膜と、前記基板に向かってターゲットからの飛散粒子が垂直方向に対し斜め方向から入射するように成膜する斜入射成膜とを組み合わせて成膜した下地膜を成膜した後、該下地膜上に前記多層反射膜を成膜することを特徴とする多層反射膜付き基板の製造方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16 , G21K 1/06

FI (3件)：

H01L21/30 531M , G03F1/16 A , G21K1/06 D

Fターム (10件)：

2H095BA10 , 2H095BB25 , 2H095BB35 , 2H095BC08 , 2H095BC11 , 2H095BC27 , 5F046GD02 , 5F046GD03 , 5F046GD10 , 5F046GD16

引用特許：

出願人引用 (2件)

反射型X線マスク及びその製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-016698 出願人：株式会社ニコン
多層緩衝層使用のレチクルにおける基板欠陥の軽減
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-542276 出願人：ザリージェンツオブザユニヴァーシティーオブカリフォルニア

審査官引用 (4件)

フォトマスク・ブランク、フォトマスク、フォトマスク・ブランクを製造するための方法と装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-036249 出願人：カール-ツアイス-シュティフツンク
擬似欠陥を有する反射型マスクブランクス及びその製造方法、擬似欠陥を有する反射型マスク及びその製造方法、並びに擬似欠陥を有する反射型マスクブランクス又は反射型マスクの製造用基板
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-314999 出願人：HOYA株式会社
多層膜反射鏡、多層膜反射鏡の製造方法、多層膜反射鏡の応力の制御方法および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-200272 出願人：株式会社ニコン

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