特許
J-GLOBAL ID：200903079098574914
擬似欠陥を有する反射型マスクブランクス及びその製造方法、擬似欠陥を有する反射型マスク及びその製造方法、並びに擬似欠陥を有する反射型マスクブランクス又は反射型マスクの製造用基板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-314999
公開番号（公開出願番号）：特開2004-289110
出願日： 2003年09月08日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】反射型マスク及び反射型マスクブランクスの評価・欠陥検査に用いる擬似欠陥を有する反射型マスクブランクス及び擬似欠陥を有する反射型マスクを提供する。【解決手段】基板1と、該基板1上に形成された、露光光を反射する反射多層膜3とを有し、基板1上には所定の凹凸からなる下地パターン2を有し、下地パターン2上に設けた反射多層膜3の表面には下地パターン2に対応する段差が形成され、擬似的な欠陥が形成されている。【選択図】 図1(a)
請求項（抜粋）：
基板と、該基板上に形成された、露光光を反射する反射多層膜とを有する反射型マスクブランクスであって、前記反射多層膜の主表面には、入射した露光光の反射光に位相変化を生じる段差が形成されていることを特徴とする擬似欠陥を有する反射型マスクブランクス。
IPC (5件)：
H01L21/027
, G03F1/08
, G21K1/06
, G21K5/00
, G21K5/02
H01L21/30 531M
, G03F1/08 M
, G03F1/08 S
, G21K1/06 B
, G21K1/06 C
, G21K5/00 Z
, G21K5/02 X
2H095BA10
, 2H095BB01
, 2H095BB02
, 2H095BD04
, 2H095BE01
, 5F046GD10
, 5F046GD11
