特許
J-GLOBAL ID：200903057122527015

ガス供給装置、成膜装置及び成膜方法

発明者：
津田 栄之輔

津田 栄之輔 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-038408
公開番号（公開出願番号）：特開2009-224775
出願日： 2009年02月20日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】構造が単純で製作が容易であり、また例えばALDなどのプロセスを適用した場合におけるガスの置換性が良好で、スループットの向上に寄与できるガス供給装置等を提供する。【解決手段】処理容器2内の載置台3上の基板Wに処理ガスを供給するガス供給装置4において、天板部材42は載置台3と対向する位置に、ガスの拡散空間40を構成するためにこの載置台3に向かって末広がりの形状に形成された凹部422を有し、ガス供給ノズル41は凹部422の頂部から当該凹部422内に突出すると共に、この凹部422の周方向に沿って複数のガス供給孔411が設けられている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理容器内の載置台に載置された基板に対向し、前記基板に対して処理を行うための処理ガスを供給するガス供給装置において、 前記載置台上の基板と対向する位置にガスの拡散空間を構成するために前記載置台に向かって末広がりの形状に形成された凹部を有する天板部材と、 前記凹部の頂部から当該凹部内に突出し、この凹部の周方向に沿って複数のガス供給孔が設けられたガス供給ノズルと、を備えたことを特徴とするガス供給装置。
IPC (2件)：
H01L 21/31 ,  C23C 16/455
FI (2件)：
H01L21/31 B ,  C23C16/455
Fターム (31件)：
4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA16 ,  4K030BA01 ,  4K030BA18 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA04 ,  4K030EA06 ,  4K030FA10 ,  4K030HA01 ,  4K030KA02 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AA06 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045AD06 ,  5F045AE01 ,  5F045BB08 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EC01 ,  5F045EE19 ,  5F045EF01 ,  5F045EF05 ,  5F045EF13 ,  5F045EF14 ,  5F045EF20 ,  5F045GB15
引用特許：
審査官引用 (9件)
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