特許

J-GLOBAL ID：200903057304649388

セグメント化された炭化水素-フッ化炭化水素スルホネートアニオンを有するイオン光酸発生剤

発明者： ラマンナ,ウィリアム エム. ,  クラーク,グレゴリー ディー. ,  フリン,リチャード エム. ,  チウ,チャイ-ミン
出願人/特許権者： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-550062
公開番号（公開出願番号）：特表2006-504785
出願日： 2003年10月10日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：

光活性カチオン部分およびセグメント化された高度にフッ素化された炭化水素アニオン部分を含む光酸発生剤塩が開示され、光酸発生剤塩は高い光酸強度を提供し、溶解度および極性に関して調整することが可能である。本発明は、ミクロ平版印刷のためのフォトレジストおよび光重合のような用途のための光開始酸触媒プロセスにおいて用いられるような光酸発生剤に更に関連する。

請求項（抜粋）：

(a)i.遷移金属含有有機金属カチオン ii.有機オニウムカチオンまたは iii.それらの混合物 の少なくとも1種を含むカチオンおよび (b)式-O3S-Rf-Q-(Rh-Zm)n (式中、 Rfは高度にフッ素化された二価アルキレン部分であり、 Rhは炭化水素部分であり、 nは1〜2であり、 mは独立して1〜3であり、 Q基は、共有結合、

IPC (6件)：

C07C 311/09 ,  C07C 25/02 ,  C08F 2/50 ,  C08G 59/68 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/029

FI (6件)：

C07C311/09 ,  C07C25/02 ,  C08F2/50 ,  C08G59/68 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/029

Fターム (30件)：

2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025CA48 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81 ,  4H006EA21 ,  4J011AA05 ,  4J011AC04 ,  4J011QA01 ,  4J011QA03 ,  4J011QA06 ,  4J011QA13 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011SA61 ,  4J011SA83 ,  4J011SA87 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J036AA01 ,  4J036GA01 ,  4J036GA26 ,  4J036HA02 ,  4J036JA09

引用特許：

審査官引用 (6件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-321128   出願人：富士写真フイルム株式会社
• スルホニウム塩化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-369910   出願人：和光純薬工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-065051   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 光酸発生化合物、及びポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-057067   出願人：富士写真フイルム株式会社
• スルホニウム塩の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-381430   出願人：サンアプロ株式会社
• 電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-032878   出願人：富士写真フイルム株式会社