特許

J-GLOBAL ID：200903090726394487

スルホニウム塩化合物

発明者： 大野 桂二 ,  深沢 和仁 ,  阪本 一徳 ,  浦野 文良 ,  角野 元重 ,  今關 重明
出願人/特許権者： 和光純薬工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369910
公開番号（公開出願番号）：特開2002-193925
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：

【要約】【課題】 より実用的なレジスト用酸発生剤及び光カチオン性重合開始剤として使用し得るスルホニウム塩化合物の提供。【解決手段】 本発明は、一般式[1]又は[3]で示されるトリフェニルスルホニウム塩化合物。(式中、R1及びR2は夫々独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、少なくとも一方は低級アルキル基を表し、n個のR3は夫々独立してアルキル基を表し、nは0〜3の整数を表し、iは1〜3の整数を表し、jは0〜2の整数を表し、i+j=3であり、Y-は一般式[2][式中、R4はアルキル基又はアルキル基を置換基として有していてもよいアリール基を表す。]で示されるスルホン酸由来のアニオンを表す。)(式中、Xはオルト位及び/又はメタ位に置換基を有するフェニル基を表し、mは1〜3の整数を表し、qは0〜2の整数を表し、m+q=3であり、pは1又は2を表し、Zp-はカルボン酸由来のアニオンを表す。)

請求項（抜粋）：

一般式[1]又は[3]で示されるトリフェニルスルホニウム塩化合物。(式中、R1及びR2は夫々独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、少なくとも一方は低級アルキル基を表し、n個のR3は夫々独立してアルキル基を表し、nは0〜3の整数を表し、iは1〜3の整数を表し、jは0〜2の整数を表し、i+j=3であり、Y-は一般式[2][式中、R4はアルキル基又はアルキル基を置換基として有していてもよいアリール基を表す。]で示されるスルホン酸由来のアニオンを表す。)(式中、Xはオルト位及び/又はメタ位に置換基を有するフェニル基を表し、mは1〜3の整数を表し、qは0〜2の整数を表し、m+q=3であり、pは1又は2を表し、Zp-はカルボン酸由来のアニオンを表す。)

IPC (11件)：

C07C381/12 ,  C08F 2/48 ,  C08K 5/06 ,  C08K 5/1545 ,  C08K 5/3492 ,  C08K 5/36 ,  C08L 25/18 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027

FI (11件)：

C07C381/12 ,  C08F 2/48 ,  C08K 5/06 ,  C08K 5/1545 ,  C08K 5/3492 ,  C08K 5/36 ,  C08L 25/18 ,  C09K 3/00 K ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (56件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CA48 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB40 ,  4H006AB80 ,  4H006AB81 ,  4H006TN10 ,  4H006TN30 ,  4H006TN50 ,  4H006TN90 ,  4J002AA031 ,  4J002BC121 ,  4J002ED028 ,  4J002ED057 ,  4J002EL097 ,  4J002EU188 ,  4J002EV296 ,  4J002FD050 ,  4J002FD148 ,  4J002FD156 ,  4J002FD207 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03 ,  4J011AC04 ,  4J011QA01 ,  4J011QA02 ,  4J011QA03 ,  4J011QA05 ,  4J011QA06 ,  4J011QA08 ,  4J011QA09 ,  4J011QA33 ,  4J011QA39 ,  4J011SA83 ,  4J011SA87 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01

引用特許：

審査官引用 (10件)

• スルホニウム塩、光酸発生剤、光カチオン重合開始剤およびレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-087561   出願人：日本電気株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-079458   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-385724   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-328968   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-329053   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-243346   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-273160   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-061479   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-066074   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-018290   出願人：ジェイエスアール株式会社