特許
J-GLOBAL ID：200903057707339150

ポジ型シリコーン含有感光性組成物

発明者：
安波 昭一郎

安波 昭一郎 について

, 
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-164640
公開番号（公開出願番号）：特開2001-350262
出願日： 2000年06月01日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】 半導体デバイスの製造において、ArFやKrFを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に0.18μm以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコーン含有感光性組成物を提供すること。【解決手段】(a)側鎖にシリコン原子を有し、かつ水不溶性で酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、(b)活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、(d)溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコーン含有感光性組成物。
請求項（抜粋）：
(a)側鎖にシリコン原子を有し、かつ水不溶性で酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、(b)活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、(d)溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコーン含有感光性組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 30/08 ,  C08K 5/00 ,  C08L 43/04 ,  C08L101/10 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 30/08 ,  C08K 5/00 ,  C08L 43/04 ,  C08L101/10 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (43件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB34 ,  2H025CC03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BQ001 ,  4J002EF006 ,  4J002EV237 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002GP03 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB07Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AK32Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL08R ,  4J100AL79Q ,  4J100AL80Q ,  4J100AL82Q ,  4J100AM02R ,  4J100AP16P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA08Q ,  4J100BA11R ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA37
引用特許：
審査官引用 (7件)
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