特許
J-GLOBAL ID：200903057808381130

計測装置及びこれを備える投影露光装置並びにデバイス製造方法

発明者：
松本 隆宏

松本 隆宏 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (4件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-329915
公開番号（公開出願番号）：特開2008-147258
出願日： 2006年12月06日
公開日（公表日）： 2008年06月26日
要約：
【課題】ベストフォーカス付近において適切なフォーカス計測を行うこと。【解決手段】計測装置は、投影露光装置のフォーカス位置に対してエッジ間隔が極値を持つ検査マークが形成された基板を計測するための計測装置であって、前記検査マークのエッジ間隔が異なるフォーカス位置で極値を持つように計測条件を変更し、各計測条件で撮像された前記検査パターンのエッジ間隔情報を取得する取得手段と、前記各計測条件で撮像された前記検査パターンのエッジ間隔情報に基づいて、デフォーカス量を算出する算出手段と、を備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
投影露光装置のフォーカス位置に対してエッジ間隔が極値を持つ検査マークが形成された基板を計測するための計測装置であって、 前記検査マークのエッジ間隔が異なるフォーカス位置で極値を持つように計測条件を変更し各計測条件で撮像された前記検査パターンのエッジ間隔情報を取得する取得手段と、 前記各計測条件で撮像された前記検査パターンのエッジ間隔情報に基づいて、デフォーカス量を算出する算出手段と、 を備えることを特徴とする計測装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/207 ,  G01B 11/14
FI (3件)：
H01L21/30 526A ,  G03F7/207 H ,  G01B11/14 H
Fターム (14件)：
2F065AA22 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC17 ,  2F065CC25 ,  2F065FF04 ,  2F065GG00 ,  2F065JJ00 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ25 ,  5F046BA03 ,  5F046DA14 ,  5F046DB07 ,  5F046DD06
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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