特許
J-GLOBAL ID：200903057902296813

露光装置

発明者：
畑沢 正人

畑沢 正人 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-340790
公開番号（公開出願番号）：特開2004-177468
出願日： 2002年11月25日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：
【課題】コラムに生じる歪み変形の投影光学系への影響を抑えることができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に露光する。投影光学系PLは複数並んだ投影光学モジュールPLa〜PLgからなり、複数の投影光学モジュールPLa〜PLgが1つの定盤1に支持されている。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
マスクのパターンを投影光学系を介して基板に露光する露光装置において、 前記投影光学系は複数並んだ投影光学モジュールからなり、 前記複数の投影光学モジュールが1つの定盤に支持されていることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
G03F7/20 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F7/20 501 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 515Z
Fターム (9件)：
2H097BA10 ,  2H097CA06 ,  2H097CA12 ,  2H097GB01 ,  2H097LA12 ,  5F046CB25 ,  5F046CB27 ,  5F046DA12 ,  5F046DA30
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • ステージ装置及び露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-213361   出願人：株式会社ニコン
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-126415   出願人：株式会社ニコン
  • 投影露光装置および方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-106054   出願人：キヤノン株式会社
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