シリカガラス

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-000389
公開番号（公開出願番号）：特開2005-194118
出願日： 2004年01月05日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：

【課題】従来のTiO2を含有するシリカガラスでは、熱膨張係数がほぼゼロとなる温度領域が狭く、従来の光学分析用セル材や赤外線加熱装置の周辺材料に用いられていた黒色石英ガラスも熱膨張係数が大きく、耐熱衝撃性が不充分であった。【解決手段】3〜10質量%のTiO2を含有するガラスであって、TiO2に対する還元性を有する物質を含有し、0〜100°Cでの熱膨張係数CTE0〜100が0±300ppb/°Cであり、かつ200〜700nmの波長域で厚さ1mmあたりの内部透過率T200〜700が80%以下であることを特徴とするシリカガラス。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

3〜10質量%のTiO2を含有するガラスであって、0〜100°Cでの熱膨張係数CTE0〜100が0±300ppb/°Cであり、かつ200〜700nmの波長域で厚さ1mmあたりの内部透過率T200〜700が80%以下であることを特徴とするシリカガラス。

IPC (1件)：

C03C3/06

FI (1件)：

C03C3/06

Fターム (60件)：

4G062AA04 , 4G062BB01 , 4G062BB02 , 4G062DA08 , 4G062DB01 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EB01 , 4G062EC01 , 4G062ED01 , 4G062EE01 , 4G062EF01 , 4G062EG01 , 4G062FA01 , 4G062FB03 , 4G062FC01 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062GE02 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH20 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ07 , 4G062JJ10 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062KK10 , 4G062MM02 , 4G062MM40 , 4G062NN01 , 4G062NN05 , 4G062NN30 , 4G062NN33

引用特許：

出願人引用 (1件)

米国特許出願公開第2002/157421号明細書

審査官引用 (7件)

特開昭60-176945
投射リソグラフィーフォトマスクブランク、プレフォームおよび製造方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-605857 出願人：コーニングインコーポレイテッド
遠紫外軟X線投影リソグラフィー法システムおよびリソグラフィーエレメント
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-512586 出願人：コーニングインコーポレイテッド

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