特許
J-GLOBAL ID：200903085138554598
フォトマスク、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法及びマスクデータ作成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (11件)：
前田 弘
, 竹内 宏
, 嶋田 高久
, 竹内 祐二
, 今江 克実
, 藤田 篤史
, 二宮 克也
, 原田 智雄
, 井関 勝守
, 関 啓
, 杉浦 靖也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-027592
公開番号（公開出願番号）：特開2007-206563
出願日： 2006年02月03日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：
【課題】フォトマスクの遮光部中に設けられた透光部よりなる主パターン同士が露光波長以下の間隔で近接する任意のレイアウトにおいても主パターンを透過した露光光による光強度分布のコントラストを強調できるようにする。【解決手段】透過性基板100上の遮光部101に複数の孤立した透光部よりなる主パターン111〜115が形成されている。主パターン111及び112間に、透光部を透過する露光光に対して反転位相で露光光を透過させる位相シフター部よりなる補助パターン103が形成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光光に対して透過性を有する透過性基板上の遮光部に複数の孤立した透光部よりなる主パターンが形成されたフォトマスクであって、
前記主パターンは、所定の間隔で隣り合う第1の主パターンと第2の主パターンとを有し、
前記第1の主パターンと前記第2の主パターンとの間に、前記透光部を透過する前記露光光に対して反転位相で前記露光光を透過させる位相シフター部よりなる第1の補助パターンが形成されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
2H095BA01
, 2H095BB02
, 2H095BB03
, 2H095BC24
出願人引用 (3件)
審査官引用 (12件)
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