特許
J-GLOBAL ID:200903058366665521
ポジ型フォトレジスト用の混合溶剤系
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
江崎 光史 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-576320
公開番号(公開出願番号):特表2002-527795
出願日: 1999年10月02日
公開日(公表日): 2002年08月27日
要約:
【要約】【解決手段】 少なくとも1種類の造膜性樹脂;少なくとも1種類の光増感剤;および50重量%より多いアルキレングリコールアルキルエーテルと50重量%より少ないアルキルアルコキシプロピオナートまたはアルキルアミルケトンとを含有するフォトレジスト溶剤混合物の混合物を含む、フォトレジストとして使用するのに適する感光性ポジ型組成物およびかゝるフォトレジスト組成物の製造方法。
請求項(抜粋):
実質的にa)少なくとも1種類の造膜性樹脂;b)少なくとも1種類の光増感剤成分;およびc)50重量%より多いC1 〜C4 -アルキレングリコールC1 〜C4 -アルキ ルエーテルおよび50重量%より少ないC1 〜C4 -アルキルアミルケトンま たはC1 〜C4 -アルキルC1 〜C4 -アルコキシプロピオナートを含有する フォトレジスト溶剤混合物の混合物よりなるポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (3件):
G03F 7/004 501
, G03F 7/022 601
, H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/004 501
, G03F 7/022 601
, H01L 21/30 502 R
Fターム (10件):
2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025BE07
, 2H025CB29
, 2H025CC03
引用特許:
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