特許
J-GLOBAL ID：200903058959045775

電子ベース・リソグラフィのための高感度レジスト組成物

発明者：
ファン、ウー、ソン

ファン、ウー、ソン について

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リー、ウェンジ

リー、ウェンジ について

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モルー、ウェイン

モルー、ウェイン について

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メデイロス、デビッド、イー

メデイロス、デビッド、イー について

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ペトリロ、カレン、イー

ペトリロ、カレン、イー について

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ラング、ロバート、エヌ

ラング、ロバート、エヌ について

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アンゲロプロス、マリー

アンゲロプロス、マリー について


出願人/特許権者：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション について


代理人 (3件)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-558994
公開番号（公開出願番号）：特表2006-512600
出願日： 2002年12月05日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：
【課題】 本発明のレジスト組成物は、酸感応性像形成ポリマーと、放射線感応性酸発生剤成分とを有するレジスト組成物を提供する。【解決方法】 本レジスト組成物は、(i)溶解抑制酸発生剤からなる群から選択された第1の放射線感応性酸発生剤と、(ii)未保護酸性基-官能基化酸発生剤と、酸不安定基保護酸性基-官能基化放射線感応性酸発生剤とからなる群から選択された第2の放射線感応性酸発生剤と、を含み、EPL、EUV、軟X線、その他の低エネルギー強度リソグラフィ像形成用途に用いるのに適した高感応性レジストの形成を可能にする。レジスト組成物は、他のリソグラフィ法にも有用である。
請求項（抜粋）：
(a)像形成ポリマーと、 (b)放射線感応性酸発生剤成分と、 を含み、前記放射線感応性酸発生剤成分が、 (i)溶解抑制酸発生剤からなる群から選択された第1の放射線感応性酸発生剤と、 (ii)未保護酸性基-官能基化放射線感応性酸発生剤と、酸不安定基保護酸性基-官能基化放射線感応性酸発生剤とからなる群から選択された第2の放射線感応性酸発生剤と、 を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/11 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/11 503 ,  H01L21/30 502R
Fターム (17件)：
2H025AA01 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025DA35 ,  2H025DA40 ,  2H025FA17 ,  2H025FA39
引用特許：
出願人引用 (20件)
  • 米国特許第6,043,003号
  • 米国特許第5,374,504号
  • 米国特許第5,191,124号
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審査官引用 (8件)
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