特許
J-GLOBAL ID：200903061234339090
リソグラフィック装置、デバイス製造方法およびその方法を使用して製造されたデバイス
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-422366
公開番号（公開出願番号）：特開2004-207730
出願日： 2003年12月19日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：
【課題】光エレメントの過剰露光を解決する。【解決手段】照明システムILに適用され、放射源LAで生成された放射ビームは、照明システムILに入射し、ミラーSPFである第1の光エレメントに衝突する。放射ビームは、次に、複数の別のミラーFF、FF、N1、N2およびGによって反射され、投影ビームPBとして最終的に照明システムから出ていく。シャッタSH1およびSH2を使用することによって放射の光路を選択的に遮断することができる。光エレメントの過剰露光は、光エレメントの過剰洗浄対策により防止される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
投影放射ビームを提供するための放射システムと、
所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するための投影システムと、
前記放射システム、前記パターン化手段および/または前記投影システム部分を形成している複数の光エレメントとを備えた、少なくとも1つの放射洗浄ビームおよびガスを使用して、前記光エレメントの各々または前記光エレメントのサブセットを洗浄するための洗浄手段を特徴とするリソグラフィック投影装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 503G
, G03F7/20 521
, H01L21/30 541Z
5F046AA28
, 5F046CB02
, 5F046CB08
, 5F046CB17
, 5F046CC02
, 5F046DA27
, 5F046GA14
, 5F046GA20
, 5F046GB01
, 5F056AA08
