特許
J-GLOBAL ID:200903061319145693

有機薄膜トランジスタ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 三好 秀和 ,  伊藤 正和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-149630
公開番号(公開出願番号):特開2006-013468
出願日: 2005年05月23日
公開日(公表日): 2006年01月12日
要約:
【課題】有機ゲート絶縁膜を具備して柔軟性を有しながらもしきい電圧が低く漏れ電流が少ない薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供する。【解決手段】有機薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供する。有機薄膜トランジスタは基板と基板上に位置するゲート電極を具備する。ゲート電極上に無機ゲート絶縁膜と有機ゲート絶縁膜の積層構造を有するゲート絶縁膜が位置する。ゲート絶縁膜上にゲート電極と重なる有機半導体層が位置する。したがって、柔軟性を有すると同時に漏れ電流が低減されて、低いしきい電圧を有する有機薄膜トランジスタを具現することができる。【選択図】図4
請求項(抜粋):
基板と、 前記基板上に位置するゲート電極と、 前記ゲート電極上に位置して、無機ゲート絶縁膜と有機ゲート絶縁膜の積層構造を有するゲート絶縁膜と、 前記ゲート絶縁膜上に前記ゲート電極と重なる有機半導体層と、 を備えることを特徴とする有機薄膜トランジスタ。
IPC (3件):
H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01L 51/05
FI (6件):
H01L29/78 617U ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 617T ,  H01L29/78 617W ,  H01L29/78 617M ,  H01L29/28
Fターム (34件):
5F110AA06 ,  5F110AA08 ,  5F110BB01 ,  5F110CC03 ,  5F110CC05 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD04 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE06 ,  5F110EE09 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF04 ,  5F110FF09 ,  5F110FF22 ,  5F110FF24 ,  5F110FF25 ,  5F110FF27 ,  5F110FF28 ,  5F110FF30 ,  5F110FF32 ,  5F110GG05 ,  5F110GG42 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110QQ14
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 米国特許第5,347,144号
審査官引用 (7件)
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