特許
J-GLOBAL ID：200903061419765370
レーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法そしてこれを利用した有機発光表示素子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
三好 秀和
, 伊藤 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-061356
公開番号（公開出願番号）：特開2007-128844
出願日： 2006年03月07日
公開日（公表日）： 2007年05月24日
要約：
【課題】磁気力を利用してドナーフィルムとアクセプト基板をラミネーティングする工程を施すレーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法そしてこれを利用した有機発光表示素子を提供する。【解決手段】有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び画素定義領域に転写される発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、基板ステージとレーザ発信器の間に配置され、ドナーフィルムの転写される発光層に対応するパターンの開口部を具備し、アクセプト基板と磁力を形成する第2磁石を具備する密着フレームと、密着フレームを基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段とを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される前記発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に配置され、前記ドナーフィルムの転写される前記発光層に対応するパターンの開口部を具備し、前記アクセプト基板と磁力を形成する第2磁石を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
3K007AB11
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
出願人引用 (3件)
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有機EL表示体の製造方法および有機EL製造装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-152118
出願人：TDK株式会社
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発光素子
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-085933
出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, 旭硝子株式会社
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米国特許第4,377,339号明細書
審査官引用 (6件)
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