特許
J-GLOBAL ID:200903061679588634
雰囲気プラズマ表面処理方法およびそれを実行するための装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (8件):
岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 産形 和央
, 臼井 伸一
, 越智 隆夫
, 本宮 照久
, 朝日 伸光
, 三山 勝巳
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-581555
公開番号(公開出願番号):特表2005-528737
出願日: 2003年03月28日
公開日(公表日): 2005年09月22日
要約:
本発明は、プラズマ発生器を使用して少なくとも2つのプラズマ・ジェットを発生させることにある雰囲気プラズマ表面処理方法に関し、前記プラズマ・ジェットは雰囲気のガス環境よりも低いイオン化エンタルピーを有するガスもしくは流入ガス混合物の流れの中で放電によって作り出される。本発明の方法は、電極として作用する前述のプラズマ・ジェット間に配置される放電ゾーンが非自立性であり、かつ表面を処理するために使用される活性ガスによって主に構成されるプラズマを発生させることを特徴とし、電場の強度Eが次の条件、すなわち(JnQ/e)input gas≦E≦(JnQ/e)ambient gasを満足させる放電を作り出し、ここでJはガス粒子活性化エネルギーであり、nは前記ガスの粒子密度であり、Qは電子とガスの粒子の弾性衝突の実効断面であり、eは電子の電荷である。
請求項(抜粋):
雰囲気プラズマによって表面を処理する方法において、プラズマ発生器を使用して少なくとも2つのプラズマ・ジェットを発生させる工程を含み、プラズマ・ジェットが、雰囲気のガス状媒質よりも低いイオン化エンタルピーを有するキャリヤ・ガスもしくはキャリヤ・ガス混合物の流れの中で放電によって作り出される方法であって、電極として機能する前記プラズマ・ジェット間に配置された放電のゾーンが非自立性であり、かつ表面を処理するための活性ガスで主に構成されるプラズマを発生させ、放電を作り出す電場の強度Eが条件、すなわち
(JnQ/e)キャリヤ・ガス≦E≦(JnQ/e)雰囲気ガス
を満足させ、
ここでJはガス粒子の活性化のエネルギーであり、
nはこのガスの粒子密度であり、
Qは電子とこのガスの粒子の弾性衝突の実効断面であり、
eは電子の電荷であることを特徴とする方法。
IPC (3件):
H05H1/32
, A61B18/00
, H05H1/44
FI (3件):
H05H1/32
, H05H1/44
, A61B17/36
Fターム (3件):
4C060KK47
, 4C060MM22
, 4C060MM24
引用特許:
出願人引用 (2件)
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国際特許出願WO97/22369
-
欧州特許出願EP0279745
審査官引用 (8件)
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