特許
J-GLOBAL ID:200903061693663568
液晶表示装置の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-303414
公開番号(公開出願番号):特開2003-107480
出願日: 2001年09月28日
公開日(公表日): 2003年04月09日
要約:
【要約】【課題】配向膜を形成するための仮焼成を、少ないガス使用量で乾燥ムラを生ずることなく短時間で実施可能な液晶表示装置の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の液晶表示装置の製造方法は、基板上に樹脂と溶媒とを含有した塗工液を塗布することにより塗膜を形成する工程と、前記塗膜を仮焼成して前記塗膜から前記溶媒を揮発させる工程と、前記仮焼成後に前記塗膜を本焼成して前記塗膜中の樹脂を硬化させる工程と、前記本焼成後に前記塗膜に配向処理を施して配向膜を得る工程とを含み、前記仮焼成は、前記基板6をトンネル型仮焼成炉21内に配置し且つ前記トンネル型仮焼成炉21の互いに対向した第1開口から第2開口へとガスを流すことにより前記塗膜の上方に前記塗膜の表面に沿って一方向に流れるガス流を形成しつつ前記基板6を加熱することを含んだことを特徴とする。
請求項(抜粋):
基板上に樹脂と溶媒とを含有した塗工液を塗布することにより塗膜を形成する工程と、前記塗膜を仮焼成して前記塗膜から前記溶媒を揮発させる工程と、前記仮焼成後に前記塗膜を本焼成して前記塗膜中の樹脂を硬化させる工程と、前記本焼成後に前記塗膜に配向処理を施して配向膜を得る工程とを含み、前記仮焼成は、前記基板をトンネル型仮焼成炉内に配置し且つ前記トンネル型仮焼成炉の互いに対向した第1開口から第2開口へとガスを流すことにより前記塗膜の上方に前記塗膜の表面に沿って一方向に流れるガス流を形成しつつ前記基板を加熱することを含んだことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (2件):
G02F 1/1337
, G02F 1/13 101
FI (2件):
G02F 1/1337
, G02F 1/13 101
Fターム (19件):
2H088FA10
, 2H088FA16
, 2H088FA17
, 2H088FA19
, 2H088FA20
, 2H088FA21
, 2H088FA24
, 2H088FA30
, 2H088MA16
, 2H088MA18
, 2H090HB08Y
, 2H090HC05
, 2H090HC08
, 2H090HC15
, 2H090HC18
, 2H090HC20
, 2H090HD14
, 2H090HD15
, 2H090MB13
引用特許:
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