特許
J-GLOBAL ID：200903061791387617
インプリント・リソグラフィ
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 山本 貴和
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-114638
公開番号（公開出願番号）：特開2006-303503
出願日： 2006年04月18日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：
【課題】インプリント・リソグラフィ・プロセスでインプリント可能媒体にインプリントするように構成されたインプリント型板を提供すること【解決手段】このインプリント型板は、インプリント型板の接触面の単位面積当たりのパターン・フィーチャを実質的に充填するために使用されたインプリント可能媒体の体積に対応するパターン密度を有するパターンを有し、インプリント型板接触面のパターンの隣り合う領域は実質的に同じパターン密度を有し、最小限にされたパターン密度差を有し、又は最大限より小さく維持されたパターン密度差を有し、また、それらの隣り合う領域の各々は、基板にインプリントされた後で異なる機能を実現する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
インプリント・リソグラフィ・プロセスでインプリント可能媒体にインプリントするように構成されたインプリント型板であって、前記インプリント型板の接触面の単位面積当たりのパターン・フィーチャを実質的に充填するために使用されたインプリント可能媒体の体積に対応するパターン密度を有するパターンを有し、前記インプリント型板接触面の前記パターンの隣り合う領域が実質的に同じパターン密度を有し、前記隣り合う領域の各々が、基板にインプリントされた後で異なる機能を提供するインプリント型板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B81C5/00
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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引用文献：
出願人引用 (1件)
-
Nanoimprint lithography, 20030901, p.45-49
審査官引用 (1件)
-
Nanoimprint lithography, 20030901, p.45-49
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